Поставляем Кондуктивный датчик уровня Endress+Hauser Liquipoint для промышленных и гражданских объектов. Оригинальная продукция с гарантией. Подбор аналога, доставка по Москве, СПб и регионам РФ.
Liquipoint FTW33 разработан для пищевой отрасли в соответствии с международным гигиеническим требованиям. Он предназначен применений с пастообразными и липкими средами с сильным налипанием или при необходимости монтажа заподлицо.
Функциональность:
— измерения в масляных и водных растворах и пастообразных или вязких продуктах
— фактический монтаж заподлицо
Надежность:
— функция компенсации отложений
— функциональное тестирование с помощью испытательного магнита
Простота использования:
— не требуется калибровки и корректировки
— Plug & play без специальных инструментов
Преимущества
| Принцип измерения | Кондуктивный принцип измерения |
| Характеристики/Применение | Компактный точечный датчик предельного уровня для использования в трубах и в емкостях для хранения, смешивания и переработки с мешалкой или без нее, для водных и нефтяных сред, с активной компенсацией налипаний, с монтажом заподлицо |
| Доп.информация | Возможность использования для CIP и SIP Проводящая пена распознается или может быть отключена |
| Питание / Коммуникация | 10…30 В пост. тока |
| Температура окружающей среды | -40… 70 °C (-40 … 158 °F) |
| Рабочая температура | Стандартное исполнение: -20… 100 °C Очистка: -20… 150 °C за 1 ч ( -4 … 302 °F за 1 ч) |
| Рабочее давление абс. / макс. предел избыточного давления | Вакуум…25 бар (Вакуум…362,5 psi) |
| Смачиваемые части | Сенсор: 316L Изоляция датчика: PEEK |
| Присоединение к процессу | Резьбовое соединение G1, G1/2, G3/4, M24 |
| Гигиеническое присоединение к процессу | Clamp ISO 2852 1 до 1 1/2″, 2″, соединение с трубопроводом DIN11851 |
| Связь | DC PNP |
| Сертификаты/Нормативы | CSA общего назначения EN10204-3.1 EHEDG 3A FDA |
| Сертификат по конструкции | EN 10204-3.1 |
| Гигиенические сертификаты | 3A, EHEDG |
| Опции | Приварной адаптер, Технологический адаптер для гигиенического присоединения к процессу |